 |
- ⒶⒸЭлектронно-лучевая технология в изготовлении микроэлектронных приборов. [Djv-Fax- 4.3M] Авторы: Джордж Р. Брюэр, Джеймс С. Гринич, Дональд Р. Херриот, Р.К. Хендерсон, Дж.П. Балантайн, Ж. Тротель, Б. Фэй. Под редакцией Дж.Р. Брюэра. Перевод с английского В.В. Копицына и А.Н. Маркова.
(Москва: Издательство «Радио и связь»: Редакция переводной литературы, 1984)
Скан, обработка, формат Djv-Fax: АЧ, 2003
- КРАТКОЕ ОГЛАВЛЕНИЕ:
Предисловие редактора перевода (5).
Предисловие (7).
Глава 1. Литография с высокой разрешающей способностью. Джордж Р. Брюэр (9).
Глава 2. Электронно-лучевые процессы. Джеймс С. Гринич (58).
Глава 3. Электронно-лучевые установки. Дональд Р. Херриот, Джордж Р. Брюэр (131).
Глава 4. Изготовление микроэлектронных приборов с применением электронно-лучевой литографии. Ричард К. Хендерсон (202).
Глава 5. Изготовление шаблонов с применением электронно-лучевой литографии. Дж.П. Балантайн (239).
Глава 6. Методы репродуцирования. Жак Тротель, Бернард Фэй (279).
Список литературы (316).
Список работ, переведенных на русский язык (328).
ИЗ ИЗДАНИЯ: Рассмотрены процессы высокоразрешающей электронно-лучевой литографии, взаимодействие электронного луча с резистом, способы изготовления фотошаблонов и переноса изображения на полупроводниковую пластину. Даны примеры электронно-лучевых установок, тенденции их усовершенствования. Определены области наиболее целесообразного применения электронно-лучевой литографии.
Для широкого круга инженерно-технических работников, занимающихся проектированием и изготовлением полупроводниковых приборов и интегральных схем. |
![]() |
