Аннотация издательства: Рассмотрены процессы высокоразрешающей электронно-лучевой литографии, взаимодействие электронного луча с резистом, способы изготовления фотошаблонов и переноса изображения на полупроводниковую пластину. Даны примеры электронно-лучевых установок, тенденции их усовершенствования. Определены области наиболее целесообразного применения электронно-лучевой литографии.
Для широкого круга инженерно-технических работников, занимающихся проектированием и изготовлением полупроводниковых приборов и интегральных схем.