![]() |
- ⒶⒸСветочувствительные полимерные материалы. [Djv- 2.9M] Совместное издание СССР и ЧССР. Под редакцией А.В. Ельцова. Авторы: Богумил Беднарж, Андрей Васильевич Ельцов, Я. Заховал, Я. Краличек, Т.А. Юрре. Переплет художника Б.Н. Осенчакова.
(Ленинград: Издательство «Химия»: Ленинградское отделение, 1985)
Скан, обработка, формат Djv: АЧ, 2004
- КРАТКОЕ ОГЛАВЛЕНИЕ:
Предисловие (6).
Введение (8).
Глава I. Физико-химические основы, приемы и процессы литографии (15).
Глава II. Позитивные фоторезисты (65).
Глава III. Негативные фоторезисты на основе ониевых солей (105).
Глава IV. Негативные азидсодержащие фоторезисты (133).
Глава V. Негативные фоторезисты на основе поливинилциннаматов и других циклодимеризующихся систем (161).
Глава VI. Фоторезисты различного назначения (177).
Глава VII. Резисты, чувствительные к электронному и рентгеновскому излучению (212).
Глава VIII. Многослойные резистные системы (268).
Приложение. Промышленные фоторезисты (279).
Литература (283).
ИЗ ИЗДАНИЯ: Монография подготовлена учеными СССР и ЧССР. Описаны принципы создания светочувствительных полимерных материалов (фото-, электроно- и рентгенорезистов). Приведены их технические свойства и определены области применения в качестве светокопировальных слоев, в производстве полупроводниковых приборов, печатных плат, полиграфических печатных форм и т.п. Рассмотрены методы синтеза отдельных компонентов и композиций в целом.
Предназначена научным и инженерно-техническим работникам химической, полиграфической, радиоэлектронной промышленности, специализирующимся в области органического синтеза, теоретической и прикладной фотохимии и занятым созданием новых светочувствительных материалов. |
![]() |
