«И» «ИЛИ»  
© Публичная Библиотека
 -  - 
Универсальная библиотека, портал создателей электронных книг. Только для некоммерческого использования!
Берлин Евгений Владимирович

Евгений Владимирович Берлин 40k

-

()

...Генеральный директор ООО «ЭСТО-Вакуум». В 1978 году окончил Воронежский Государственный Университет по специализации «Физика плазмы».
До 1985 года работал в Воронежском НИИПМ, занимался разработкой вакуумного напылительного и плазмохимического оборудования. С 1986 по 1989 года в аспирантуре НИИВТ им. Векшинского разрабатывал установки ионно-плазменного травления. В 1990 г. был одним из организаторов ООО «МЭШ-Плюс», в котором работал главным инженером до 1994 года.
С 1994 года по 2003 год в ЗАО НПП «ТИРС» занимал должность заместителя директора по науке. В 2003 году организовал общество с ограниченной ответственностью «ЭСТО-Вакуум». За годы своей работы опубликовал около 40 статей, посвященных вакуумной технике и технологиям, а в 2007 году совместно с Двининым С.А. и Сейдманом Л.А. выпустил книгу «Вакуумная технология и оборудование для нанесения и травления тонких пленок».
За годы своей работы зарегистрировал несколько патентов на изобретения.
.
евгений владимирович берлин на страницах библиотеки упоминается 1 раз:
* Берлин Евгений Владимирович
  • Вакуумная технология и оборудование для нанесения и травления тонких пленок. [Djv- 1.4M] Авторы: Е. Берлин, С. Двинин, Л. Сейдман.
    (Москва: Издательство «Техносфера», 2007. - Мир материалов и технологий)
    Скан, обработка, формат Djv: Sergege, 2008
    • СОДЕРЖАНИЕ:
      .
Аннотация издательства: В книге обобщено современное состояние одной из отраслей производства изделий электронной техники: вакуумной технологии нанесения и травления тонких пленок. Книга содержит подробное описание магнетронных напылительных установок, плазмохимических установок для травления тонких пленок и технологических особенностей их использования. Описаны математические модели, способы управления и примеры использования реактивного магнетронного напыления, принципы построения и применения среднечастотных источников питания для реактивного магнетронного напыления. Приведены теоретические основы и физические принципы конструирования нового типа источника высокочастотного разряда низкого давления для ионного или плазмохимического травления тонких пленок и/или их стимулированного плазмой осаждения.
Книга рассчитана на специалистов научно-исследовательских лабораторий, конструкторских бюро и производственных подразделений предприятий, занимающихся разработкой и изготовлением различных изделий электронной техники и оборудования для их производства.
.