![]() |
- ⒶⒸКурносов А.И... Технология производства полупроводниковых приборов и интегральных микросхем. [Djv- 3.8M] Учебное пособие для вузов по специальностям «Полупроводники и диэлектрики» и «Полупроводниковые приборы». Издание 3-е, переработанное и дополненное. Авторы: Анатолий Иванович Курносов, Владимир Васильевич Юдин.
(Москва: Издательство «Высшая школа», 1986)
Скан, обработка, формат Djv: АЧ, 2003
- КРАТКОЕ ОГЛАВЛЕНИЕ:
Предисловие (3).
Введение (5).
Глава 1. Технология полупроводникового производства (7).
Глава 2. Полупроводниковые материалы (12).
Глава 3. Механическая обработка полупроводниковых материалов (34).
Глава 4. Технохимические процессы подготовки подложек ИМС (54).
Глава 5. Получение структур методом сплавления (77).
Глава 6. Получение структур методом эпитаксиального наращивания (87).
Глава 7. Защитные диэлектрические пленки в планарной технологии (112).
Глава 8. Фотолитография (135).
Глава 9. Получение структур методом диффузии (172).
Глава 10. Получение структур методом ионной имплантации (202).
Глава 11. Получение структур методами термического испарения и ионно-плазменного распыления (231).
Глава 12. Процессы радиационной обработки (265).
Глава 13. Защита поверхности p-n-переходов (287).
Глава 14. Сборка полупроводниковых приборов и интегральных микросхем (300).
Глава 15. Конструкции корпусов полупроводниковых приборов и ИМС (318).
Глава 16. Особенности технологии изготовления ИМС (345).
Заключение (361).
Список литературы (363).
Предметный указатель (364).
ИЗ ИЗДАНИЯ: В книге рассмотрены основные технологические процессы производства полупроводниковых приборов и интегральных микросхем. В 3-е издание (2-е - в 1979 г.) введены новые разделы, посвященные технологическим процессам радиационной обработки материалов и приборов, новейшим конструкциям корпусов интегральных микросхем, а также полупроводниковым материалам. |
![]() |
